攻克7nm指日可待！國產第500台步進光刻機成功交付

快科技8月9日消息，毫無疑問，我國正在發力光刻機，而先進制程的7nm工藝早晚會被攻克，目前全產業鏈都在集體發力。

據上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱「芯上微裝」或「AMIES」）發布公告，公司昨天舉辦了第500台步進光刻機交付儀式，這標誌著我國高端半導體裝備產業邁上新的台階。

芯上微裝稱，先進封裝光刻機是AMIES的拳頭產品，具備高解析度、高套刻精度、超大曝光視場等顯著特點，具有強大的翹曲和厚膠處理能力，可根據客戶的具體工藝需求靈活配置設備。

該類產品能夠滿足Flip-chip、Fan-in、Fan-out WLP/PLP、2.5D/3D等先進封裝技術的要求，獲得了市場的高度認可，目前全球市占率達到35%，國內市占率達到90%。

此次發運的第500台步進光刻機將交付給盛合晶微半導體（江陰）有限公司。盛合晶微與AMIES擁有良好的合作基礎，盛合晶微表示願意進一步深化與AMIES的戰略合作，共同推動先進封裝技術創新和產業發展。

根據資料顯示，芯上微裝成立於2025年02月08日，是一家專注於高端半導體裝備研發、生產和服務的創新型科技企業。公司致力於為IC前道晶片製造、晶圓級/板級先進封裝、化合物半導體和新型顯示等應用領域提供高精度、高性能、高可靠性的設備及解決方案。

到底什麼是步進式光刻機（由工件台、掩模台以及調焦調平系統三大部分組成）？它其實集成電路製造的高精度投影曝光裝置（不可或缺的核心裝備），通過步進光刻技術實現高解析度圖案轉移的半導體製造設備，核心功能是將掩模圖案逐場投影到晶圓表面。

步進式光刻機的光學系統，作為其技術的關鍵所在，涵蓋了照明系統、投影物鏡以及掩模版等多個核心組件。光學系統包括照明、投影物鏡和掩模版，支持光刻機的高解析度和性能。