11 月 26 日消息，上海芯上微裝科技股份有限公司（AMIES）昨日宣布：公司自主研發的首台 350nm 步進光刻機（AST6200）正式完成出廠調試與驗收，啟程發往客戶現場。
芯上微裝表示，這標誌著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破！這不僅是一次產品的交付，更是國產半導體裝備向高端化、自主化邁進的重要里程碑。
據官方介紹，AST6200 光刻機是芯上微裝基於多年光學系統設計、精密運動控制與半導體工藝理解積澱，傾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步進式光刻設備，專為功率、射頻、光電子及 Micro LED 等先進制造場景量身定製。
核心性能亮點
高解析度成像滿足先進工藝需求，搭載大數值孔徑投影物鏡，結合多種照明模式與可變光瞳技術，實現 350nm 高解析度，滿足當前主流化合物半導體晶片的光刻工藝要求。
高精度套刻配置高精度對準系統，實現正面套刻 80nm，背面套刻 500nm，確保多層圖形精準套刻，提升器件良率。
高產率設計，顯著降低擁有成本（COO）：
1.高照度 I-line 光源（IT之家註：波長 365nm，屬於近紫外光 UVA 級別）
2.高速直線電機基底傳輸系統，支持 2/3/4/6/8 英寸多種規格基片快速切換
3.高速高精度運動台系統，最大加速度 1.5g，大幅提升單位時間產能
強工藝適應性，兼容多材質、多形態基底：
1.支持 Si、SiC、InP、GaAs、藍寶石等多種材質基片
2.兼容平邊、雙平邊、Notch 等多種基片類型
3.創新調焦調平系統，採用多光斑、大角度入射設計，可精準測量透明、半透明、不透明及大台階基底
4.支持背面對準模塊，滿足鍵合片等複雜製程的背面對準需求
100% 軟體自主可控打造全棧國產生態：AST6200 搭載芯上微裝自主研發的全棧式軟體控制系統，從底層驅動到上層工藝管理，實現完全自主主權，且具備強大的工藝擴展性與遠程運維能力。
